東京2026年5月21日 /美通社/ -- 旭化成株式會社（總公司：東京都千代田區，法定代表人總經理：工藤幸四郎，以下簡稱「本公司」）宣佈，為滿足面向AI半導體的先進半導體封裝不斷升級的需求，公司新開發出「感光性聚醯亞胺薄膜」（以下簡稱「本開發品」）。目前，本開發品已進入客戶評估階段，力爭儘早上市。 新開發的感光性聚醯亞胺薄膜 1．背景旭化成集團將電子業務定位為引領集團整體利潤增長的「重點成長」業務，持續開展包括感光性聚醯亞胺「PIMEL™」和感光性幹膜（DFR）「SUNFORT™」等在內的電子材料業務。基於這些技術積累，公司致力於材料與工藝技術的進一步升級，以滿足先進半導體封裝領域日益增長的需求。 近年來，在AI資料中心需求擴大的背景下，先進半導體封裝市場對封裝面積擴大的要求也日益增強，如多晶片的高整合化以及仲介層的大型化等。與此同時，從晶圓級向面板級轉變、3D結構化，以及封裝基板佈線的微細化和多層化趨勢的加速等，對效能的要求也進一步提高。 2．開發概要本開發品正是為滿足上述需求而開發的。除採用已擁有市場實績的「PIMEL™」技術外，在實現薄膜化的過程中，還融合了「SUNFORT™」所積累的材料與生產技術，「SUNFORT™」在微細線路和3D封裝形成所不可或缺的銅柱（Copper Pillar）形成用途方面擁有豐富的實績。依託這些優勢，本開發品除可用於面向半導體封裝的重新佈線層外，也有望應用於封裝基板用絕緣層。 在薄膜工藝方面，透過層壓工藝可在大尺寸面板上輕鬆形成均勻的絕緣樹脂，因此有望提升半導體封裝製造的生產效率。同時還具備膜厚均勻性優異、容易應對絕緣層數增加的特點。在未來預計持續擴大的面板級封裝（PLP※1）領域，本開發品也有望為提升良率與生產效率做出貢獻。 在先進半導體封裝大型化的背景下，液態工藝與薄膜工藝的研究正在同步推進。本公司將繼續致力於滿足客戶多樣化需求的材料開發，積極開拓市場。 此外，本公司還在推進將本開發品與可形成1.0μm線寬電路的高效能感光性幹膜「SUNFORT™ TA系列」※2相結合的提案，以實現微細線路與絕緣樹脂層均透過薄膜工藝形成。同時，公司也將推進與可形成半導體封裝3D化所需高縱橫比銅柱的感光性幹膜「SUNFORT™ CX系列」相結合的解決方案。 感光性聚醯亞胺薄膜與「SUNFORT™ TA系列」的重新佈線層截面圖 常務執行官兼材料領域電子材料市場部門負責人 植竹伸子 表示：「隨著AI半導體效能的不斷提升，先進半導體封裝需要更大面積、更高精細度的封裝技術。旭化成將融合迄今積累的感光性聚醯亞胺樹脂『PIMEL™』與感光性幹膜『SUNFORT™』技術，推進適應大尺寸面板的新型薄膜工藝方案。我們希望透過本開發品，為客戶提升良率與生產效率做出貢獻，並為先進半導體封裝的進一步升級持續提供支援。」 ※1 Panel...
